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第457章 盾构机（第5页）

“等等，这些不都是你吗？”

……

简单地解释过后。

吴有望、王绶觉和黄新华三人。

才算是放心下来。

不管怎么说。

李暮的安全总是第一位的。

接着。

似是才想起李暮刚刚说得话。

黄新华继续道：

“对了，你刚刚说有提升集成度的新方法，不知道是什么？”

“集成度进入40w这个领域之后，现在突破一直进展得十分缓慢。”

“如果没有意外的话，恐怕要一两年的功夫，我这边才能突破到100w，达到你先前的要求。”

40w，已经是一个相当不错的集成度数据。

不过依旧没有办法完全满足威龙-1战斗机和玄武-1主战重坦的机载计算机要求。

举个最简单的。

处理器方面，最低的标准，都是16位。

使用8位的话，战斗力无疑会大打折扣。

当然，40w也勉强能够搞出最早期的16位处理器来使用。

不过效果只怕会不尽人意。

这也是李暮提出100w作为基础标准的原因。

他想了想，道：

“我的意见是继续在光源、光学系统、掩模技术、光刻胶材料、机械和控制系统上进行创新。”

“就拿光源来说。”

“现在我们的分布式投影光刻机，主要采用还是汞灯光源，主要是g线和i线的紫外光……”

他缓缓地开始讲述。

黄新华和王绶觉两人，也迅速熟练地从口袋中掏出纸笔，开始记录。

一旁的吴有望也没有闲着，不停地为他们泡茶倒茶。

“光源上我们可以向准分子激光光源靠近，如KrF248和ArF193，甚至采用极紫外光源。”李暮做了个小小的总结。

当然，最后的极紫外光源，就是提出来凑个数，让黄新华等人先有个概念而已。

毕竟在未来，突破极紫外光刻技术，将是夏国势在必行的研究计划。

……

说完了光源。

李暮接着又说起光学系统。

现在他们的光学系统，还属于相对初级阶段。

主要采用的是2:1投影光学系统。

这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上，设计相对简单，分辨率也受到不小的限制。

如果可以提升到4:1，甚至是5：1的话。